Nec, 0,10 micron per i chip entro il 2003

La società ha annunciato una tecnologia per la fabbricazione di chip a scala 0,10 micron.

Mercoledì scorso Nec ha annunciato una tecnologia per la fabbricazione di semiconduttori a scala 0,10 micron. La società giapponese conta di ultimare le ricerche per l’inizio del 2003 e di essere subito pronta a costruire componenti da utilizzare per una gamma quanto mai variata di dispositivi, dal supercomputer al telefonino. Una scala di fabbricazione ancora più ridotta implica maggiori velocità dei componenti e contemporaneamente una riduzione dei consumi e quindi del calore generato. Oggi i processori utilizzati nei personal computer vengono prodotti in impianti a 0,18 micron a parte qualche rara eccezione da 0,13 micron. Secondo Nec, le specifiche di progettazione dei transistor a integrazione su larga scala (Lsi) verranno definite con la collaborazione di Taiwan Semiconductor Manufacturing, maggior contrattista mondiale per la fabricazione del silicio. Un segno ulteriore della vitale necessità di stabilire accordi e alleanze per fronteggiare gli onerosi costi di circuiti sempre più piccoli.

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